CAS 51311-17-2 kõrge astme 99% grafeenfluoriidi pulber

CAS 51311-17-2 Kõrge kvaliteediga 99% grafeenfluoriidipulbrit esitletud pilt

Lühike kirjeldus:

CAS 51311-17-2 kõrge aste 99% grafeenfluoriidi ja grafiidi fluoriidi pulbri fluorograafiline

1. Nimi: grafeenfluoriidi2. Valem: CF

3. Turvalisus: 99%

4. Tagamine: must pulber

5. Osa suurus: kohandatud 6. CAS NO: 51311-17-2

7. Bränd: Epoch-Chem

Saada meile e -kiri

Toote detail

Tootesildid

Lühike tutvustus

Rakendus

GrafeenfluoriidPulber on oluline uut tüüpi grafeeni tuletis. Võrreldes grafeeniga fluoritud grafeeniga, ehkki süsinikuaatomite hübridisatsioonirežiim muudetakse SP2 -lt SP3 -ks, säilitab see ka grafeeni lamellstruktuuri. Seetõttu pole fluoritud grafeenil mitte ainult suur spetsiifiline pindala grafeenina, vaid samal ajal vähendab fluori aatomite kasutuselevõtt oluliselt grafeeni pinnaenergiat, suurendab oluliselt hüdrofoobseid ja oleofoobseid omadusi ning parandab termilist stabiilsust, keemilist stabiilsust ja vastupidavust. Korrosioonioskus. Need fluoritud grafeeni ainulaadsed omadused muudavad seda laialdaselt kasutatavate, määrdevastaste, kõrgtemperatuuriliste korrosioonikindlate kattete jms korral. Samal ajal kasutatakse seda fluoritud grafeeni pika ribavahendi tõttu nanoelektroonilistes seadmetes, optoelektroonilistes seadmetes ja termoelektrilistes seadmetes. Väljal on potentsiaalsed rakenduse väljavaated.

Lisaks sellele, et fluoritud grafeenil põhineval fluorosüsinikmaterjal on välja töötatud spetsiifiline pinna- ja pooride struktuur ning fluori sisalduse erinevusel on reguleeritav energiariba struktuur, on sellel ainulaadne elektrijuhtivus ja seda kasutatakse liitiumi primaarse aku katoodi materjalides. Sellel on suure kontakti omadused

Liides elektrolüütide ja kiire liitiumiooni difusiooniga. Liitiumi primaarne aku, kasutades fluoritud grafeeni kui katoodmaterjali, on kõrge energiatiheduse eelised, kõrge ja stabiilne tühjendusplatvorm, laia töötemperatuuri vahemik ja äärmiselt pikk ladustamisaeg. , On sellel suur rakenduspotentsiaal lennunduse ja tipptasemel tsiviilväljadel.