Hafniumtetrakloriid | HFCL4 pulber | CAS 13499-05-3 | tehasehind

Lühike kirjeldus:

Hafniumtetrakloriidil on olulised rakendused hafniumoksiidi eelkäijana, orgaanilise sünteesi katalüsaatorina, tuumarakenduste ja õhukese kilede sadestumise eelkäijana, tuues esile selle mitmekülgsuse ja olulisuse erinevates tehnoloogilistes valdkondades.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Saada meile e -kiri

Toote detail

Tootesildid

Toote kirjeldus

Lühike tutvustus

Toote nimi: hafniumtetrakloriid
Cas nr: 13499-05-3
Liit valem: HFCL4
Molekulmass: 320,3
Välimus: valge pulber

Spetsifikatsioon

Ese	Spetsifikatsioon
Välimus	Valge pulber
Hfcl4+zrcl4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5ppm
Al	≤60 ppm

Rakendus

Hafniumdioksiidi eelkäija: Hafniumtetrakloriidi kasutatakse peamiselt hafniumdioksiidi (HFO2) tootmiseks, mis on suurepäraste dielektriliste omadustega materjal. HFO2 kasutatakse laialdaselt pooljuhtide tööstuses transistoride ja kondensaatorite kõrge K-d. HFCL4 on täiustatud elektroonikaseadmete valmistamisel hädavajalik, kuna see on võimeline moodustama hafniumdioksiidi õhukesi kileid.
Orgaaniline sünteesi katalüsaator: Hafniumtetrakloriidi saab kasutada katalüsaatorina mitmesuguste orgaaniliste sünteesireaktsioonide, eriti olefiini polümerisatsiooni jaoks. Selle Lewise happeomadused aitavad moodustada aktiivseid vaheühendeid, parandades seeläbi keemiliste reaktsioonide tõhusust. See rakendus on väärtuslik polümeeride ja muude orgaaniliste ühendite tootmisel keemiatööstuses.
Tuumarakendus: Tänu oma kõrge neutronide neeldumise ristlõikele kasutatakse hafniumtetrakloriidi laialdaselt tuumarakendustes, eriti tuumareaktorite kontrollvardades. Hafnium võib neutroneid tõhusalt imenduda, seega on see sobiv materjal lõhustumisprotsessi reguleerimiseks, mis aitab parandada tuumaenergia tootmise ohutust ja tõhusust.
Õhuke kilede sadestamine: Hafniumtetrakloriidi kasutatakse keemiliste aurude sadestumise (CVD) protsessides hafniumipõhiste materjalide õhukeste kilede moodustamiseks. Need filmid on hädavajalikud erinevates rakendustes, sealhulgas mikroelektroonika, optika ja kaitsekatted. Võimalus ladestuda vormiriietuse ja kvaliteetsete filmide jaoks muudab HFCL4 täiustatud tootmisprotsessides väärtuslikuks.