Hafniumtetrakloriid | HfCl4 pulber | CAS 13499-05-3 | tehasehind

Lühike kirjeldus:

Hafniumtetrakloriidil on olulised rakendused hafniumoksiidi eelkäijana, orgaanilise sünteesi katalüsaatorina, tuumarakendustes ja õhukese kile sadestamisel, mis rõhutab selle mitmekülgsust ja olulisust erinevates tehnoloogiavaldkondades.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Saada meile e-kiri

Toote üksikasjad

Tootesildid

Toote kirjeldus

Lühike sissejuhatus

Toote nimetus: Hafniumtetrakloriid
CASi nr: 13499-05-3
Ühendi valem: HfCl4
Molekulaarmass: 320,3
Välimus: valge pulber

Spetsifikatsioon

Ese	Spetsifikatsioon
Välimus	Valge pulber
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Taotlus

Hafniumi dioksiidi eelkäijaHafniumtetrakloriidi kasutatakse peamiselt lähteainena hafniumdioksiidi (HfO2) tootmisel, mis on suurepäraste dielektriliste omadustega materjal. HfO2-d kasutatakse laialdaselt pooljuhtide tööstuses transistoride ja kondensaatorite kõrge k dielektrilistes rakendustes. HfCl4 on oluline täiustatud elektroonikaseadmete tootmisel tänu oma võimele moodustada õhukesi hafniumdioksiidi kilesid.
Orgaanilise sünteesi katalüsaatorHafniumtetrakloriidi saab kasutada katalüsaatorina mitmesugustes orgaanilise sünteesi reaktsioonides, eriti olefiinide polümerisatsioonis. Selle Lewise happe omadused aitavad moodustada aktiivseid vaheühendeid, parandades seeläbi keemiliste reaktsioonide efektiivsust. See rakendus on väärtuslik polümeeride ja muude orgaaniliste ühendite tootmisel keemiatööstuses.
Tuumaenergia rakendusTänu oma suurele neutronite neeldumise ristlõikele kasutatakse hafniumtetrakloriidi laialdaselt tuumarakendustes, eriti tuumareaktorite juhtvarrastes. Hafnium suudab neutroneid tõhusalt neelata, seega on see sobiv materjal lõhustumisprotsessi reguleerimiseks, mis aitab parandada tuumaenergia tootmise ohutust ja tõhusust.
Õhukese kile sadestamineHafniumtetrakloriidi kasutatakse keemilise aurustamise (CVD) protsessides hafniumipõhiste materjalide õhukeste kilede moodustamiseks. Need kiled on olulised mitmesugustes rakendustes, sealhulgas mikroelektroonikas, optikas ja kaitsekatetes. Ühtlaste ja kvaliteetsete kilede sadestamise võime muudab HfCl4 väärtuslikuks täiustatud tootmisprotsessides.